開放式灌注微型孵化器

PDMI-2無論是在靜態(tài)還是在灌注條件下，都能很好地工作。當(dāng)在灌注條件下，微型孵化器****的設(shè)計，讓輸送流入液的軟管與一個溫度調(diào)節(jié)器控制的Peltier熱泵驅(qū)動盤接觸，這樣就可以讓流入的液體加熱或者冷卻到我們要求的溫度，減少了預(yù)加熱或者預(yù)冷卻過程。在沒有進(jìn)行灌注時，Peltier盤可以均勻加熱或者冷卻中央腔室里的細(xì)胞。

l         加熱和冷卻

l         -5°至50°C

l         連續(xù)數(shù)小時維持細(xì)胞需要的溫度：
——pH 和 O₂

l         Peltier熱泵

l         簡單改變灌注流量

l         使溫度循環(huán)試驗更加簡單

可變溫度范圍：

在使用溫度控制器時，PDMI-2開放式灌注微型孵化器操作的試驗溫度范圍的標(biāo)稱值是-5°至50°C，請參見336頁。較低的溫度可以使用附加在PDMI-2周邊的選配的降溫冷水環(huán)狀管。在整個溫度操作范圍內(nèi)，很快可以達(dá)到預(yù)置的溫度；在整個腔室中，溫度的一致性可以得到充分的保證。

理想的可調(diào)節(jié)式灌注

兩條溫度控制的灌注管線通過微型孵化器到達(dá)腔室內(nèi)部進(jìn)行速度為每分鐘3ml的灌注。腔室內(nèi)液體平面的維持是通過在腔室內(nèi)安放一個吸引器而得以實(shí)現(xiàn)，液體的高度可以通過這一裝置進(jìn)行調(diào)節(jié)。一個巧妙設(shè)計的吸引口消除了液體的撲動，因而吸引過程十分安靜。一個磁性的基座保證了吸引器放置在用戶選擇的微型孵化器的方便的位置上。

優(yōu)良的pH 控制

PDMI-2同時也在腔室的上部提供了氣流，以對pH進(jìn)行控制并提高了溫度的一致性。開放式的設(shè)計提供了出色的機(jī)械以及視覺上的對媒介的通路。

低噪聲條件

在基底部位，teflon的溝槽配備Ag/AgCl的電極，可以進(jìn)行低噪聲的電生理紀(jì)錄時形成鹽橋。

規(guī)格

腔室選擇	Coming 35mm Petri 盤,LU-CSD,MSC-TD或MSC-PTD
推薦氣體流量	0.5至2.0 L/min
溫度范圍	低于室溫-5°C 至 10°C，到50°C
溫度穩(wěn)定性	使用TC-202A在37°C使用1ml/min灌注時±0.2°C，
腔室內(nèi)溫度坡度變化	在使用1.5ml媒介容量，1ml/min灌注時2°C
內(nèi)置式溫度感應(yīng)器	電阻式，25°C 時，YSI44011, 100kW
Peltier設(shè)備額定電流	*大6A
媒介灌注速率	近3.0ml/min
整體大小，高度*直徑	17*152mm (0.67*60 in)
重量	0.5kg (17.9oz)
載物臺承載	聯(lián)系Harvard Apparatus得到選擇

產(chǎn)品目錄號    $     產(chǎn)品

NP 65-0043           PDMI-2 開放式微型孵化器，包括LU-PD與LU-ASP（不包括適配器，332頁）

TC0292A雙極溫度控制器，見336頁

CO₂/pH控制器，見313頁